隨著消費電子產(chǎn)品、汽車和太陽能發(fā)電領(lǐng)域?qū)杵骷男枨蠹ぴ?，硅晶圓的生產(chǎn)和純度把控顯得至關(guān)重要。尤其是Float Zone（FZ）和Czochralski（CZ）兩種主流生產(chǎn)工藝中，盡管FZ工藝能產(chǎn)出更高純度的硅晶圓，但CZ工藝因其經(jīng)濟(jì)高效及優(yōu)良的熱應(yīng)力特性被廣泛應(yīng)用。不過，CZ工藝生產(chǎn)的晶圓含有較多碳和氧雜質(zhì)，這些雜質(zhì)可能影響半導(dǎo)體器件性能，因此，有效測定并控制雜質(zhì)水平成為業(yè)界關(guān)注焦點。

珀金埃爾默的Spectrum 3 FT-IR光譜儀結(jié)合MappIR晶圓支架和自動化軟件，可實現(xiàn)從2英寸至12英寸硅晶圓的全面、自動化分析。系統(tǒng)能在透射或反射模式下工作，通過連續(xù)氮氣吹掃消除大氣干擾，采集高分辨率光譜數(shù)據(jù)，進(jìn)而確定晶圓中的碳、氧雜質(zhì)濃度。

綜上所述，珀金埃爾默 FT-IR自動分析系統(tǒng)的引入極大地提升了硅晶圓中元素雜質(zhì)的檢測效率和準(zhǔn)確性，不僅推動了半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的技術(shù)升級，也為高質(zhì)量硅晶圓的大規(guī)模穩(wěn)定生產(chǎn)奠定了堅實的基礎(chǔ)。未來，這一創(chuàng)新技術(shù)將在半導(dǎo)體行業(yè)的持續(xù)進(jìn)步中發(fā)揮重要作用。