摘要:美國藥典將于 2015 年 12 月開始推行新的 USP <232>、<233>，其中 USP < 233> 建議使用 ICP-MS 或 ICP-OES 分析樣品中的雜質(zhì)元素。此次樣品為藥膠布成品，以微波消化方式將樣品消化成水溶液后進(jìn)行上樣分析。雖然樣品溶液中含有硫酸和鹽酸，但借助安捷倫 ICP-MS 的* ORS 池在氦氣碰撞模式下的良好干擾消除能力，無需使用其他反應(yīng)氣體，直接通過氦氣模式即可克服 Cl、S 離子在分析中可能產(chǎn)生的復(fù)合離子干擾。此次結(jié)果證明使用安捷倫 ICP-MS 分析藥膠布樣品能夠獲得可靠的結(jié)果。

前言美國藥典 (United States Pharmacopeia, USP) 組織正在開發(fā)有關(guān)藥品和原料藥中元素雜質(zhì)測定的新通則。USP <232> 規(guī)定了分析物*，而 USP <233> 則規(guī)定了樣品分析方法及推薦使用的現(xiàn)代儀器 ICP-OES 和 ICP-MS。USP <232> 與之前的 USP <231> 相比，元素更多且規(guī)范濃度更低，其規(guī)范值元素包括 As、Cd、Hg、Pb、V、Ni、Mo、Mn、Cu、Pt、Pd、Ru、Rh、Os 和 Ir。藥膠布樣品除表面涂覆的藥劑外，還包括底層基材，消化前處理需要使用硫酸才能*消化底層基材；USP <232> 所要求的元素中包括 PGE 元素和 Hg 元素，需要添加部分鹽酸才能穩(wěn)定游離，因此在分析時需要考慮氯、硫離子對部分元素的潛在復(fù)合離子干擾：

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實驗方法樣品種類藥膠布樣品兩種，分別為樣品 1 和樣品 2。樣品前處理取藥膠布樣品約 0.1 g，添加 2.5 mL H2SO4 和 3.5 mL HNO3 后進(jìn)行密閉容器高溫高壓微波消化；為確保 Hg 與 PGE（鉑族元素，如Ir、Os、Pd、Pt、Ru）元素的穩(wěn)定性，添加 0.125 mL HCl。消化完后再用去離子水定量至 25 mL。依此條件，樣品前處理稀釋倍率為250 倍，基體含有 10% H2SO4 + 14% HNO3 + 0.5% HCl。實驗儀器使用 Agilent 7700x ICP-MS。安捷倫 ICP-MS 能提供*溫度的等離子體，能夠有效破壞樣品基體，增加儀器基體耐受性，使元素在不同樣品間獲得一致且穩(wěn)定的信號結(jié)果。參數(shù)部分只需使用氦氣模式即可去除樣品基質(zhì)中的多種復(fù)合離子干擾，從而得到更低的檢測限及更準(zhǔn)確的結(jié)果。

J 值計算及校準(zhǔn)曲線配制此次樣品藥膠布為外用藥品，但依據(jù) USP <232> 中的描述“Theother two routes of administration, mucosal and topical, areconsidered to be the same as oral for the purpose of this standard.”，表示局部 (topical) 制劑的規(guī)范與口服 (oral) 制劑相同；再進(jìn)一步查閱藥物劑型通則 (general chapter PharmaceuticalDosage Forms) <1151>，貼布 (Paste) 屬于局部用藥 (topicalapplication) 之一，因此此次樣品貼布的計算方式與口服藥物一致

分析結(jié)果添加測試為確保準(zhǔn)確度，USP <233> 規(guī)定在樣品中添加 0.5J - 1.5J 的標(biāo)準(zhǔn)品，回收率應(yīng)在 70% - 150% 之間。此次對樣品 1 的藥膠布溶液進(jìn)行 0.5J 的添加測試，對樣品 2 的藥膠布溶液進(jìn)行 1J 的添加測試，觀察添加后的回收率結(jié)果。結(jié)果表明，包括 0.5J 和 1J 的添加在內(nèi)，安捷倫 ICP-MS 均符合 USP 233中加標(biāo)回收率規(guī)定的要求。系統(tǒng)適用性評估為確保系統(tǒng)適用性，USP <233> 規(guī)定在樣品批次的分析前后均需分析 2J 標(biāo)準(zhǔn)品溶液，兩次分析之間的偏差不得超過 20%。此次分析批次也依照此方法進(jìn)行分析，結(jié)果表明安捷倫 ICP-MS 符合系統(tǒng)適用性的要求。

討論消除干擾：氦氣模式一次分析所有待測元素Agilent ICP-MS 7700 擁有第三代八極桿反應(yīng)系統(tǒng)碰撞池，僅需使用氦氣即可消除分析元素可能受到的復(fù)合離子干擾，包括之前采用He 碰撞反應(yīng)不易克服的 Cl 干擾（如 ClO 干擾 V、ArCl 干擾 As 等）或 Ar 干擾（ArO 干擾 Fe），均可直接用 He 克服。圖 1 為砷元素的校準(zhǔn)曲線圖，存在 0.5% HCl 的基體時仍可得到檢測限 < 5ppt 的分析結(jié)果，表明氦氣能有效消除 ArCl 對 As 產(chǎn)生的干擾。降低背景干擾的同時仍可維持分析元素的較高靈敏度，因此無論此次選擇元素或是未來需要添加新的分析元素，用戶無需擔(dān)心此元素是否可能受到干擾，也無需研究是否需要使用其他反應(yīng)氣體來消除干擾，均可直接使用此氦氣模式進(jìn)行分析。

以此次分析中的部分元素為例，75As、51V、103Rh 僅有單一同位素，因此下表未列出這三個元素，粗體字為建議的主同位素 (primaryisotope)，而斜體字則為提供對比的參比二級同位素 (secondaryisotope)。參比同位素和主同位素結(jié)果均相近，表明可以信賴主同位素的結(jié)果（表 8）。