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產(chǎn)品詳細

Transpector® SPS 殘余氣體分析儀

INFICON Transpector® 單壓取樣 (SPS) 殘余氣體分析儀為目標高壓過程提供上佳半導體晶圓和顯示屏面板保護。憑借適合單壓應用的zui敏感空氣泄漏和過程污染檢測，Transpector SPS 可蕞大程度減少晶圓和面板報廢。它具有業(yè)內(nèi)比較早的檢測限值和測量速度，確保晶圓和面板產(chǎn)品的質(zhì)量和數(shù)量。Transpector SPS 提供可靠的過程監(jiān)控，確保實現(xiàn)穩(wěn)定的高壓過程，進而大程度提高過程能力和產(chǎn)量。該儀器融合了簡單且高成本效益的入口系統(tǒng)與經(jīng)實踐驗證的離子源和泵組，以提供低風險、多回報的氣體分析解決方案。Transpector SPS 是一種經(jīng)過驗證的解決方案，適用于真空電弧重熔 (VAR) 等冶金和熱處理應用，且是一般真空和工業(yè)應用的理想之選。Transpector SPS 可根據(jù)具體應用和預算進行配置和定制。針對從 1E-4 Torr 到大氣的取樣過程壓強，均可選用標準孔板、劈刀和旁路線組合。耐腐蝕入口、離子源和泵組的設(shè)計可確保在蝕刻、CVD、ALD 和其他腐蝕性氣體過程中的耐受性。

好處

1，得益于單壓取樣入口，很大程度降低晶圓和面板保護的總擁有成本；是擴散、外延和 RTP 等高壓過程的理想之選

2，提供蕞低漏氣量和污染監(jiān)測，確保恒定高壓過程

3，通過強大數(shù)據(jù)采集與同步實現(xiàn)無縫工廠集成和可靠阻斷

4，通過定制配方優(yōu)化增強生產(chǎn)能力

5，通過即時現(xiàn)場專家響應保護關(guān)鍵過程需求

典型應用

1，PVD 過程

2，擴散和外延過程

3，蝕刻過程包括：金屬、電介質(zhì)、硅刻蝕, HDP-etch

4，CVD 過程包括：高 k 電介質(zhì)、HDP-CVD、LP-CVD、SA-CVD、CVD 低 k、PE-CVD

Transpector® SPS 殘余氣體分析儀